智通財(cái)經(jīng)APP獲悉,中信證券發(fā)布研究報(bào)告稱,首予中微公司(688012.SH)“買(mǎi)入”評(píng)級(jí),預(yù)計(jì)2021-23年?duì)I業(yè)收入為30.25/43.75/57.2億元,凈利潤(rùn)為5.52/7.47/9.25億元,對(duì)應(yīng)EPS為0.9/1.21/1.5元。參考公司歷史估值水平,考慮到技術(shù)領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)具備較強(qiáng)稀缺性,按照21年45倍PS,予目標(biāo)價(jià)221元。
中信證券主要觀點(diǎn)如下:
國(guó)內(nèi)稀缺、全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體設(shè)備公司。
公司以刻蝕設(shè)備起家,后推出MOCVD設(shè)備,并逐步拓展VOC設(shè)備等產(chǎn)品,2020年實(shí)現(xiàn)營(yíng)收/凈利潤(rùn)分別為22.73/4.92億元,過(guò)去4年CAGR分別為38.97%/32.28%。從收入占比來(lái)看,2020年刻蝕設(shè)備/MOCVD設(shè)備/VOC設(shè)備/備品備件/設(shè)備維護(hù)/其他業(yè)務(wù)分別占比56.7%/21.82%/0.62%/19.43%/1.44%/0.01%。公司產(chǎn)品已進(jìn)入中芯國(guó)際(688981.SH)、華虹集團(tuán)、長(zhǎng)江存儲(chǔ)、長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)、臺(tái)積電、海力士、三安光電(600703.SH)等頭部晶圓廠,刻蝕設(shè)備已進(jìn)入臺(tái)積電5nm產(chǎn)線。未來(lái),公司料將受益晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)及國(guó)產(chǎn)替代持續(xù),并通過(guò)內(nèi)生外延擴(kuò)張成長(zhǎng)為泛半導(dǎo)體設(shè)備平臺(tái)型企業(yè),預(yù)計(jì)未來(lái)三年?duì)I收CAGR為34%。
刻蝕設(shè)備:長(zhǎng)期深耕、技術(shù)領(lǐng)先,受益刻蝕環(huán)節(jié)價(jià)值提升及國(guó)產(chǎn)化。
目前IC制造刻蝕以干法為主,根據(jù)Gartner,全球IC干法刻蝕設(shè)備市場(chǎng)約140億美元,預(yù)計(jì)2020~2024年CAGR為5.8%。競(jìng)爭(zhēng)格局看,刻蝕設(shè)備市場(chǎng)高度集中,海外大廠壟斷,CR3超過(guò)90%。公司是國(guó)內(nèi)唯一兼具CCP/ICP兩種刻蝕技術(shù)的企業(yè),產(chǎn)品線覆蓋65nm-5nm各制程,涵蓋存儲(chǔ)、邏輯芯片等應(yīng)用領(lǐng)域,憑借雙反應(yīng)臺(tái)配置的高生產(chǎn)效率及國(guó)際領(lǐng)先的性能,在存儲(chǔ)廠及晶圓代工廠份額持續(xù)提升,目前在長(zhǎng)江存儲(chǔ)/華力集成招標(biāo)中設(shè)備數(shù)占比14.2%/17%,設(shè)備數(shù)國(guó)內(nèi)第一。公司定增計(jì)劃擴(kuò)充刻蝕設(shè)備產(chǎn)能630腔/年,2026年達(dá)產(chǎn)后產(chǎn)能較2021年提升6倍,公司有望在刻蝕設(shè)備技術(shù)繼續(xù)深挖,完善刻蝕設(shè)備產(chǎn)品線,未來(lái)料持續(xù)受益國(guó)內(nèi)晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)+國(guó)產(chǎn)化趨勢(shì)。
薄膜沉積設(shè)備:MOCVD迎來(lái)業(yè)績(jī)拐點(diǎn),廣泛布局CVD打開(kāi)更大市場(chǎng)。
據(jù)Maximize Market Research數(shù)據(jù),2020年全球半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模約172億美元,預(yù)計(jì)2020~2025年CAGR約為14.6%,其中MOCVD設(shè)備市場(chǎng)約8.4億美元(占比約5%),電子電力、Mini-LED等市場(chǎng)發(fā)展料將帶動(dòng)需求,Prudour預(yù)計(jì)2020~2025年CAGR約為8.5%。競(jìng)爭(zhēng)格局看,CVD設(shè)備市場(chǎng)由海外巨頭寡頭壟斷,CR3達(dá)70%,其中MOCVD設(shè)備CR3高達(dá)98%,公司市占率16%排名第三。當(dāng)前MiniLED、功率器件等有望進(jìn)入快速增長(zhǎng)期,需求驅(qū)動(dòng)和新品推出有望帶動(dòng)公司MOCVD業(yè)務(wù)重回增長(zhǎng)。同時(shí),公司與沈陽(yáng)拓荊協(xié)同覆蓋薄膜沉積設(shè)備領(lǐng)域,公司布局HPCVD、LPCVD、ALD、EPI等薄膜沉積設(shè)備的開(kāi)發(fā)和工藝應(yīng)用,進(jìn)一步打開(kāi)市場(chǎng)空間。
未來(lái)展望:內(nèi)生增長(zhǎng)+外延并購(gòu),打造平臺(tái)型半導(dǎo)體設(shè)備公司。
公司對(duì)標(biāo)應(yīng)用材料、泛林等國(guó)際龍頭,通過(guò)內(nèi)生外延拓展品類:1)設(shè)備端:參股睿勵(lì)儀器布局前道量測(cè)設(shè)備,參股拓荊科技、Solayer等賦能刻蝕、薄膜領(lǐng)域發(fā)展,未來(lái)量測(cè)、刻蝕、薄膜沉積設(shè)備形成協(xié)同效應(yīng);并依托子公司中微惠創(chuàng)推出VOC設(shè)備進(jìn)軍配套環(huán)保領(lǐng)域打開(kāi)更大市場(chǎng);
2)產(chǎn)業(yè)鏈:參股天岳等多家公司拓展襯底材料領(lǐng)域發(fā)揮客戶協(xié)同,并通過(guò)中微匯鏈實(shí)現(xiàn)軟硬件協(xié)同培育半導(dǎo)體生態(tài)鏈。未來(lái)料成為平臺(tái)型半導(dǎo)體設(shè)備公司,在泛半導(dǎo)體廣闊市場(chǎng)中持續(xù)增長(zhǎng)。
公司是半導(dǎo)體設(shè)備龍頭企業(yè),立足刻蝕及薄膜沉積核心業(yè)務(wù),通過(guò)內(nèi)生外延并舉向泛半導(dǎo)體設(shè)備平臺(tái)型公司發(fā)展??涛g領(lǐng)域市場(chǎng)持續(xù)增長(zhǎng),晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)及國(guó)產(chǎn)化趨勢(shì)為為公司帶來(lái)發(fā)展機(jī)遇;MOCVD領(lǐng)域公司市占率領(lǐng)先,MiniLED/功率器件等放量帶來(lái)市場(chǎng)擴(kuò)張動(dòng)能;未來(lái)布局的泛半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域帶來(lái)廣闊成長(zhǎng)空間。公司作為半導(dǎo)體設(shè)備龍頭企業(yè),技術(shù)水平和客戶資源領(lǐng)先同業(yè),未來(lái)業(yè)績(jī)有望持續(xù)高速成長(zhǎng)。
風(fēng)險(xiǎn)提示:下游需求不及預(yù)期;海外拓展不及預(yù)期;新品研發(fā)、商用進(jìn)展不及預(yù)期。