英偉達(NVDA.US)新顯卡或采用5nm工藝 臺積電(TSM.US)接到訂單

本文來自中關村在線，作者：李富剛。

英偉達(NVDA.US)的顯卡有一個特點，那就是能耗比表現(xiàn)相當出色，雖然英偉達一直堅持使用12nm工藝。事實上英偉達使用12nm工藝已經(jīng)有一段時間了，這在半導體行業(yè)并不多見，大家看看英特爾就知道了。有消息稱，臺積電(TSM.US)已經(jīng)接到英偉達訂單，而訂單內(nèi)容為5nm工藝。

英偉達之所以堅持使用12nm工藝，是因為即使在12nm時能效比也相當不錯，再加上競爭對手的表現(xiàn)并不是特別給力，所以沒必要使用最新工藝。如今AMD已經(jīng)開始使用7nm+工藝生產(chǎn)自家顯卡，英偉達不太可能依舊堅守12nm工藝。

不過臺積電接到英偉達7nm工藝訂單，也只是Digitimes的傳聞，所以目前無法直接對英偉達下一代顯卡采用7nm工藝下定論。如果消息屬實，那么英偉達的新一代顯卡將會相當令人期待。5月14日，GTC2020將會舉行，相信屆時英偉達會公布最新顯卡消息。

（編輯：張金亮）