海通國際：光刻膠市場增長快速 高端光刻膠進口替代廣闊

智通財經(jīng)APP獲悉，海通國際發(fā)布研究報告稱，光刻膠是圖形復刻加工技術中的關鍵性材料。隨著制程的進步，存儲芯片及邏輯芯片的層數(shù)均不斷增加，隨之而來的是每片芯片需要的光刻次數(shù)不斷增加，進而導致了對光刻膠的需求飛速增加。中國光刻膠市場增長快速，高端光刻膠進口替代廣闊。龍頭公司先發(fā)優(yōu)勢明顯，建議關注晶瑞電材(300655.SZ)、彤程新材(603650.SH)、雅克科技(002409.SZ)、南大光電(300346.SZ)。

海通國際主要觀點如下：

光刻膠是圖形復刻加工技術中的關鍵性材料。

光刻膠，也被稱為“光致抗蝕劑”，是一種用于光刻的載體介質(zhì)，它可以利用光化學反應將光信息在光刻系統(tǒng)中經(jīng)過衍射和過濾后轉(zhuǎn)化為化學能，從而將微細圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待處理的基板。光刻膠按照下游用途可分為半導體光刻膠、面板光刻膠以及PCB光刻膠，是半導體加工、面板制造以及PCB生產(chǎn)中必不可少的材料，其中半導體光刻膠擁有最高的技術壁壘，工藝較難突破。目前最尖端的量產(chǎn)半導體光刻膠為EUV光刻膠，而有可能作為下一代的無機光刻膠已處于客戶驗證階段。

半導體制程進步使得對光刻膠的需求增加。

隨著制程的進步，存儲芯片及邏輯芯片的層數(shù)均不斷增加，隨之而來的是每片芯片需要的光刻次數(shù)不斷增加，進而導致了對光刻膠的需求飛速增加。根據(jù)SEMI和WSTS的數(shù)據(jù)，單位晶圓面積所消耗的光刻膠金額已經(jīng)從2015年3月不到0.12美元/平方英寸上升到2021年9月約0.19美元/平方英寸，而光刻膠市場規(guī)模占半導體市場規(guī)模的比例也在不斷上升。

全球光刻膠市場規(guī)模持續(xù)穩(wěn)定增長，各細分市場格局差異較大。

根據(jù)Reportlinker的報告，2026年光刻膠市場總體規(guī)模將超過120億美元，其中半導體光刻膠市場規(guī)模有望于2025年超過30億美元。半導體光刻膠、面板光刻膠以及PCB光刻膠市場目前呈現(xiàn)出了不同的市場格局。半導體光刻膠具有最高的技術壁壘，目前國產(chǎn)替代程度較低，日系公司占據(jù)了70%以上的市場份額;面板光刻膠技術壁壘次之，目前部分低端光刻膠已實現(xiàn)國產(chǎn)替代;PCB技術壁壘最低，國產(chǎn)占全球的市場份額已在90%以上。

中國光刻膠市場增長快速，高端光刻膠進口替代廣闊。

隨著經(jīng)濟的不斷發(fā)展，中國已成為全球最大的電子產(chǎn)品生產(chǎn)及消費市場，衍生出了巨大的半導體器件需求，根據(jù)ICInsights統(tǒng)計，從2013年到2018年僅中國半導體集成電路市場規(guī)模從820億美元擴大至1550億美元，年復合增長率13.58%。隨著電子信息產(chǎn)業(yè)向中國轉(zhuǎn)移，美國對中國科技技術的打壓和配套產(chǎn)業(yè)鏈的完善，光刻膠進口替代是趨勢所向，其中大部分中低端產(chǎn)品已經(jīng)實現(xiàn)進口替代，部分國內(nèi)企業(yè)已在光刻膠等高端產(chǎn)品進口替代取得突破。