智通財經(jīng)APP獲悉,美光(MU.US)日前宣布, 2021財年的資本支出將超過95億美元,這比早些時候提出的90 億美元目標(biāo)增加了5億美元。據(jù)悉,增加部分主要是美光向ASML采購極紫外(EUV)光刻機的預(yù)付款。
美光計劃在今年年底安裝 ASML新一代 EUV 光刻機 3600D。在將新設(shè)備正式投入量產(chǎn)之前,該公司預(yù)計會先在量產(chǎn)線上進行試驗。
美光表示,計劃從2024年開始,將EUV納入DRAM開發(fā)路線圖。此前,三星、SK海力士已投入EUV DRAM。
值得關(guān)注的是,隨著全球三大 DRAM 制造商三星電子、SK海力士及美光加碼投資EUV光刻設(shè)備,圍繞EUV光刻設(shè)備的采購競爭將更加激烈,ASML的訂單也將變得更加搶手。