智通財經(jīng)APP獲悉,阿斯麥(ASML.US)和三星電子將共同投資1萬億韓元(7.6億美元)在韓國建設(shè)一家工廠,開發(fā)尖端半導(dǎo)體加工技術(shù)。阿斯麥在周二的聲明中表示,該工廠將使用下一代極紫外(EUV)光刻技術(shù),該技術(shù)由阿斯麥獨家提供,用于生產(chǎn)高端芯片。
新工廠擴大了阿斯麥在韓國的業(yè)務(wù),該公司在韓國已經(jīng)有四個工廠,為包括三星在內(nèi)的客戶提供服務(wù)。
另外,據(jù)報道,阿斯麥還與韓國第二大芯片制造商SK海力士簽署諒解備忘錄,以開發(fā)回收EUV光刻機中使用的氫氣的技術(shù),以降低EUV光刻機能耗。
韓國和荷蘭還宣布,將設(shè)立“韓荷先進半導(dǎo)體學(xué)院”,讓韓國半導(dǎo)體相關(guān)的學(xué)生和勞動者在荷蘭接受教育。面臨嚴(yán)重勞動力短缺的阿斯麥公司,依靠外國人才來擴大業(yè)務(wù)。
阿斯麥?zhǔn)鞘澜缟献畲蟮墓饪滔到y(tǒng)制造商,這種設(shè)備在制造半導(dǎo)體的過程中起著至關(guān)重要的作用。阿斯麥同時也是全球唯一的EUV光刻機供應(yīng)商。臺積電(TSM.US)、三星和英特爾(INTC.US)將EUV光刻機用于最先進的芯片制造。